01Ausgangslage
Eine Anlage, die Glaswafer und Werkzeug auf ±1 µm zusammenbringt, muss zuerst wissen, wo beide Teile liegen. Dafür gibt es Positionsmarken – und zwei ganz unterschiedliche Wege, sie zu finden. Der eine sucht die Kanten der Marke und schneidet sie; der andere lernt die Marke als Muster an und sucht sie wieder. Die Abnahmekriterien waren klar: ±1 µm in x und y, ±0,5° im Winkel, jeweils bei einer Standardabweichung. Nur: Bei 0,6 µm pro Pixel ist ein Mikrometer keine zwei Pixel breit. Das ist von Anfang an ein Subpixel-Problem.

